Hafnium ανάλυσης φάσματος διοξείδιο/Hafnium οξείδιο Hfo2 CAS Νο 12055-23-1

 

       Hafnium (HfO2) είναι ένα ευρυζωνικό χάσμα και η υψηλή διηλεκτρική σταθερά της κεραμικής, πρόσφατα στον τομέα της μικροηλεκτρονικής βιομηχανίας ειδικά είναι εξαιρετικά προσοχή, επειδή είναι πλέον πιθανή να αντικαταστήσει το τρέχον πυρίτιο-βασισμένο στο ολοκληρωμένο κύκλωμα των τμημάτων πυρήνων του διηλεκτρικού πυριτίου πυλών του (MOSFET) σωλήνων επίδρασης τομέων ημιαγωγών μεταλλικών οξειδίων (SiO2), προκειμένου να λυθεί MOSFET στην ανάπτυξη της παραδοσιακής δομής του ορίου μεγέθους SiO2/Si.

 

1, μοριακός τύπος: HfO2

2. Μοριακό βάρος: 210.6

3. Εμφάνιση: άσπρες ή γκρίζες φέτες, μόρια

4. Πυκνότητα: 9.68g/cm3

5, σημείο τήξης: 2850 βαθμοί εκατοντάβαθμος

6. Πίεση εξάτμισης

Σε 2678 Γ, 1Pa

Σε 2875 Γ, 10Pa

7. Ο συντελεστής της γραμμικής επέκτασης: 5.6 Χ 10-6/K

8. Διαλυτότητα: αδιάλυτος στο νερό

8, αγνότητα: 99.99

9. Χαρακτηριστικά ταινιών:

Ελαφριά σειρά μετάδοσης από 220 σε 12000Nm

Δείκτης διάθλασης (250nm) ~ 2,15

(500nm) ~ 2

10. Ο όρος της εξάτμισης:

Ηλεκτρονικό πυροβόλο όπλο

Μερική πίεση οξυγόνου σε 1~2 Χ 10-2Pa

Θερμοκρασία εξάτμισης 2600~2800 βαθμοί σε εκατοντάβαθμο

Θερμοκρασία υποστρωμάτων 250 βαθμοί σε εκατοντάβαθμο

Ποσοστό 2nm/s εξάτμισης

Τομέας εφαρμογής: UV ταινία αντιαντανάκλασης, μεμβράνη παρέμβασης

 

 

ΣΤΟΙΧΕΙΟ			ΠΡΟΔΙΑΓΡΑΦΕΣ			ΑΠΟΤΕΛΕΣΜΑΤΑ ΤΗΣ ΔΟΚΙΜΗΣ
HfO2+Zr (%, λ.)			99,9% λ.			προσαρμοστείτε
ΕΠΑΝ ακαθαρσίες (%, Max)
Φε			0,0002			προσαρμοστείτε
Al			0,0001			προσαρμοστείτε
Si			0,002			προσαρμοστείτε
Tj			0,01			προσαρμοστείτε
Β			0,0025			προσαρμοστείτε
PB			0,001			προσαρμοστείτε
Cd			0,0001			προσαρμοστείτε
$cu			0,002			προσαρμοστείτε
Χρώμιο			0,005			προσαρμοστείτε
MG			0,001			προσαρμοστείτε
Mo			0,001			προσαρμοστείτε
ΜΝ			0,001			προσαρμοστείτε
Νι			0,0015			προσαρμοστείτε
Sn			0,002			προσαρμοστείτε
Β			0,001			προσαρμοστείτε
L.O.I (1100℃)			1			προσαρμοστείτε
Άλλος δείκτης
Μέγεθος μορίων (χιλ.)			0.1-3			προσαρμοστείτε